廠商：Thermo scientific
型號：Helios-G4-CX

參數與指標：

1、加速電壓：0.2kV—30kV（SEM）；0.5kV—30kV（FIB）；
2、放大倍數：12×—1000,000×（SEM）；300×—500000×（FIB）；
3、分辨率：電子束：0.6nm@15kV（最佳工作距離）；1nm@1kV（非減速模式，最佳工作距離）；離子束：2.5nm@30kV（雙束交叉點）；
4、束流強度：0.8pA—100nA（SEM）；0.1pA—65nA（FIB）
5、X射線能譜探測器：場效應管（FET）的高速SDD探測器；晶體有效檢測面積60mm２；元素探測范圍：B4~Cf98

主要配件及附件：

GIS氣體注入體統（Pt、C）、EDS能譜儀、Easylift納米機械手、DBS探頭、STEM探頭、ICE探頭。

特色及用途：

聚焦離子束（FIB）掃描電鏡可在納米尺度利用離子轟擊樣品表面，實現材料的剝離、沉積、注入等加工工藝，同時還具有掃描電子顯微鏡（SEM）的成像功能、TEM透射電鏡樣品制備、薄膜斷面樣品制備、二次電子成像、背散射電子成像、EDS能譜分析、微納加工等功能。此臺聚焦離子束掃描電鏡的特點在于加工束流大，加工時間短，去非晶可選擇的加工電壓低，最大限度的提高了制樣效率，保證了樣品本身的信息不被破壞。Easylift納米機械手穩定性良好，在離子束切割的配合下，可進行各種微納材料的搬運和加工。